产品分类 更多>>
Fluid Purification
GE阻垢剂MDC150
Argo MDC150阻垢剂与传统阻垢剂的技术特点比较
晶体修改型阻垢剂 Argo MDC 150阻垢剂
阻垢剂类型 晶体修改型 阻止晶体生成型
阻垢原料 含磷小分子或含磷多元共聚物(有机膦)与其他高分子聚合物的复合配方 树枝状聚合物Dendrimer的高纯度单一合成体
生产工艺 买来用于锅炉或冷却循环水阻垢的原料药剂按一定比例复合配制,难以保证配方
纯度和溶解度 拥有世界科技前沿完整生产线及专利技术自行生产合成Dendrimer
阻垢原理 促使金属微晶(Ca2++SO42-=CaSO4)生成后再通过对晶体生长进行修改,阻止微晶长大为
沉淀 直接阻止微晶(CaSO4)生成
阻垢产物 大量微晶生成并悬浮于浓水中,当其覆盖
于膜表面时，则导致反渗透膜污堵 无微晶生成
阻垢剂对膜的污染影响 含磷分子设计导致其本身也可与膜表面
生成氢键链接,从而导致膜的污堵 树枝状聚合物Dendrimer与膜不会发生任何反应或附着
阻垢方式对膜的污染影响 由于其本质为较原始的螯和掩蔽,故会有大量微晶生成,当加药量过大时,微晶会在
膜表面形成冻胶状排列,导致膜的污染 Dendrimer的阻垢方式为完全防止微晶产生,所以不会在膜表面产生任何污染
